氢氟酸(HF)
1) 半导体蚀刻以及清洗用材料
2) 太阳能电池以及多晶硅的蚀刻以及清洗用材料
3) 显示器面板打磨用材料
盐酸(HCl)
1) 半导体蚀刻以及清洗用材料
2) 太阳能电池以及多晶硅的蚀刻以及清洗用材料
精制硝酸(HNO3)
1) 半导体蚀刻以及清洗用材料
2) 太阳能电池以及多晶硅的蚀刻以及清洗用材料
其它电子材料
1) 2次电池电解液原料